富士チタン工業株式会社

厳選された原料をもとに
さまざまな誘電体ベース材料を提供

当社では、特別に精製された原料をもとに、厳密な品質管理により｢誘電体ベース材料｣を製造・販売し、これらの材料はセラミックコンデンサをはじめとする電子材料用途の配合基材に幅広く用いられています。
当社におけるベース材料の代表格として、固相法による「チタン酸バリウム」（商品名：“BT-”シリーズ）、「チタン酸ストロンチウム」（商品名：“ST-”シリーズ）、蓚酸塩法による「高純度チタン酸バリウム」（商品名：“HP-”シリーズ）が品揃えされています。
固相法による「チタン酸バリウム」｢チタン酸ストロンチウム｣は炭酸バリウム、炭酸ストロンチウム、酸化チタンを出発原料に、混合、仮焼、粉砕処理工程を経て製造。「チタン酸バリウム」は単板コンデンサのベース材料として、｢チタン酸ストロンチウム｣は複写機用のトナーの外添剤として、幅広く使用されています。
一方、「高純度チタン酸バリウム」は当社独自の《蓚酸塩法（共沈法）》によって製造されており、微粒・均質という特長を活かし、積層セラミックコンデンサのベース材料として使用されています。

微粒化・高結晶化を通じて
日進月歩のユーザーニーズに対応

携帯電話やデジタルカメラとする電気製品は著しい勢いで小型化が進んでいます。この流れは当然電子部品業界にも及び、「積層セラミックコンデンサの小型化」「その材料粉であるチタン酸バリウムの更なる改良」が予想されることから、微粒化・高結晶化を通じてユーザーニーズに対応しています。

誘電体ベース材料としてのチタン酸バリウム

チタン酸バリウムはチタン原子(Ti)を中心に、酸素原子(O)、バリウム原子（Ba）が入りこんだ結晶構造で、一般的には“ペロブスカイト構造”と呼ばれています。
チタン酸バリウムは多くの電気エネルギーをそのままの状態で蓄えておける物質として、セラミック誘電体ベース材料として幅広く利用されています。

光通信の普及により優れた光学特性を持つルチル単結晶が注目を浴び、当社が製造するルチル型高純度酸化チタン（銘柄名 TP-3）をその原料として供給。その流動性、溶解性はルチル型単結晶の育成に最も合致したものとして高い評価を得ています。
また、超高純度チタン酸ストロンチウム（銘柄名 HPST-2）も単結晶用の原料として、ユーザーに提供しております。

ベース材料で培ったノウハウを応用して
電気的特性をさらに有効活用

当社では、独自のベース材料に長年にわたって培ってきた高度な配合ノウハウ・微粉化技術を応用して、電子部品のセラミック基材に使用される｢配合材料｣を電子部品メーカーに提供しています。安定した磁器特性と優れた電気特性を実現した製品は、各種エレクトロニクス部品に幅広く使用されています。

電気エネルギーを多く蓄えることができ(高容量)、信頼性が高いセラミックコンデンサは、主として積層状の部品に加工され、パソコン・携帯電話などの電子機器に使用されています。
当社は、高誘電率系の各種セラミックコンデンサ向けに高品質で安定したコンデンサ特性が得られる配合材料も手掛けており、中でも｢積層セラミックコンデンサ配合材料｣は、その優れた磁器特性が高く評価されています。